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अल्ट्रासोनिक पतली फिल्म सौर सेल स्प्रे कोटिंग मशीन

अल्ट्रासोनिक पतली फिल्म सौर सेल स्प्रे कोटिंग मशीन

उत्पत्ति के प्लेस:

चीन

ब्रांड नाम:

RPS-SONIC

प्रमाणन:

CE

मॉडल संख्या:

आरपीएस-डब्ल्यूएच-100

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उत्पाद विवरण
आवेदन:
कोटिंग, क्लीनिंग, ह्यूमिडिफिकेशन
परमाणुकरण विधि:
अल्ट्रासोनिक
परमाणुकरण कण आकार:
5-50μm
नियंत्रण मोड:
मैनुअल या स्वचालित
प्रवाह दर:
<20 मिली/मिनट
जनक:
2000ई/2000सी
नोजल का आकार:
0.2-1.5 मिमी
शक्ति:
100 वाट
विद्युत आपूर्ति:
एसी 220 वी
स्प्रे दूरी:
50-100 मिमी
स्प्रे फॉर्म:
रुक-रुक कर या लगातार छिड़काव
स्प्रे चौड़ाई:
40 ~ 150 मिमी
वोल्टेज:
220V/50Hz
वजन:
0.5 किलो
कार्य दबाव:
0.1-0.3 mpa
नाम:
100kHz अनुकूलित अल्ट्रासोनिक माइक्रो स्प्रे नोजल कोहरे एटॉमाइज़र
भुगतान और शिपिंग शर्तें
न्यूनतम आदेश मात्रा
1 सेट
मूल्य
विनिमय योग्य
पैकेजिंग विवरण
गत्ते का डिब्बा या लकड़ी के बक्से
प्रसव के समय
5 से 8 कार्य दिवस
भुगतान शर्तें
एल/सी, टी/टी, डी/पी
आपूर्ति की क्षमता
प्रति माह 100 सेट
उत्पाद वर्णन

अल्ट्रासोनिक पतली फिल्म सौर सेल स्प्रे कोटिंग मशीन

 
अल्ट्रासोनिक स्प्रे नोजल क्या है?

अल्ट्रासोनिक पतली फिल्म सौर सेल स्प्रे कोटिंग एक अभिनव तकनीक है जिसका उपयोग फोटोवोल्टिक सामग्री की पतली परतों को सब्सट्रेट पर लगाने के लिए किया जाता है।यह विधि अल्ट्रासोनिक तकनीक का लाभ उठाती है कोटिंग सामग्री की बारीक बूंदें बनाने के लिएइस प्रक्रिया का अवलोकन और इसके फायदे इस प्रकार हैं:

अल्ट्रासोनिक पतली फिल्म स्प्रे कोटिंग का अवलोकन

अल्ट्रासोनिक परमाणुकरणः

अल्ट्रासोनिक स्प्रे कोटिंग में उच्च आवृत्ति वाली अल्ट्रासोनिक तरंगों का उपयोग फोटोवोल्टिक सामग्री युक्त तरल समाधान को परमाणुकृत करने के लिए किया जाता है। इस प्रक्रिया के परिणामस्वरूप छोटी बूंदें बनती हैं।

कोटिंग प्रक्रियाः

परमाणुकृत बूंदों को एक सब्सट्रेट पर निर्देशित किया जाता है, जो लचीला या कठोर हो सकता है। सब्सट्रेट को अक्सर आसंजन बढ़ाने और समान कवरेज सुनिश्चित करने के लिए पूर्व-उपचार किया जाता है।

सामग्री अनुप्रयोगः

इस प्रक्रिया में उपयोग की जाने वाली सामग्रियों में कार्बनिक फोटोवोल्टिक, पेरोस्काइट सामग्री और अन्य अर्धचालक यौगिक शामिल हैं।सामग्री की पसंद सौर कोशिकाओं की दक्षता और गुणों को प्रभावित करती है.

सूखना और कठोर करना:

आवेदन के बाद, लेपित फिल्म को सूखा और सख्त किया जाता है, जिसमें उपयोग की जाने वाली सामग्री के आधार पर हीटिंग या यूवी प्रकाश के संपर्क में आना शामिल हो सकता है।

स्प्रे नोजल का पैरामीटर क्या है?

पद चौड़ा प्रकार विसारक प्रकार गुच्छा प्रकार लम्बा नोजल बाहरी तरल पदार्थ आपूर्ति
परमाणुकृत कण का व्यास 15-40 15-41 15-42 १५-२० १५-२०
छिड़काव की चौड़ाई (एमएम) 40-120 40-80 2-20 १-३ 0.5-2
छिड़काव ऊंचाई (एमएम) 50-150 30-80 10-30 १०-२० १०-२०
प्रवाह (ml/min) 0.5-20 0.5-20 0.5-10 0.5-10 0.01-1
उपयुक्त चिपचिपाहट (सीपीएस) <30 <30 <30 <15 <15
द्रव में कण का आकार (um) <20 <15 <10 <8 <8
विचलन दबाव (एमपीए) <0.05 <0.05 <0.05 / /

 

क्या आपके पास स्प्रे नोजल की तस्वीरें हैं?

लाभअल्ट्रासोनिक पतली फिल्म सौर सेल स्प्रे कोटिंग मशीन 0

समान कोटिंगः अल्ट्रासोनिक प्रक्रिया को कोटिंग सामग्री के समान वितरण की अनुमति देता है, दोषों को कम करता है और दक्षता में सुधार करता है।
स्केलेबिलिटी: इस पद्धति को बड़े पैमाने पर उत्पादन के लिए स्केल किया जा सकता है, जिससे यह बड़े पैमाने पर निर्माण के लिए उपयुक्त है।
लचीलापनः तकनीक को लचीली सामग्री सहित विभिन्न सब्सट्रेट के लिए अनुकूलित किया जा सकता है, जो अभिनव सौर अनुप्रयोगों के लिए महत्वपूर्ण है।
सामग्री दक्षता: सटीक बूंदों के गठन के कारण कोटिंग सामग्री का न्यूनतम अपशिष्ट।

आवेदन

लचीले सौर पैनल: ऐसे अनुप्रयोगों के लिए उपयोगी जहां पारंपरिक कठोर पैनल व्यवहार्य नहीं हैं।
बिल्डिंग-इंटीग्रेटेड फोटोवोल्टिक्स (बीआईपीवी): सौर प्रौद्योगिकी को वास्तुकला में एकीकृत करते हुए निर्माण सामग्री पर लागू किया जा सकता है।
पहनने योग्य प्रौद्योगिकीः पोर्टेबल और पहनने योग्य उपकरणों में हल्के सौर कोशिकाओं के लिए क्षमता।

चुनौतियाँ

सामग्री संगतताः यह सुनिश्चित करना कि छिड़काव सामग्री विभिन्न प्रकार के सब्सट्रेट पर अच्छी तरह से चिपके।
प्रक्रिया अनुकूलन: इष्टतम प्रदर्शन के लिए बूंदों के आकार और छिड़काव दूरी जैसे परिमाणों को ठीक करना।
दीर्घकालिक स्थिरताः विभिन्न पर्यावरणीय परिस्थितियों में लेपित फिल्मों की स्थायित्व और जीवन काल को संबोधित करना।

अल्ट्रासोनिक स्प्रे नोजल की तुलना पारंपरिक स्प्रे नोजल से कैसे की जाती है?
अल्ट्रासोनिक स्प्रे नोजल पारंपरिक स्प्रे नोजल के मुकाबले दक्षता के मामले में कई फायदे प्रदान करते हैं। तुलना के कुछ प्रमुख बिंदु यहां दिए गए हैंः

  1. परमाणुकरण दक्षताः अल्ट्रासोनिक स्प्रे नोजल तरल पदार्थों को बारीक बूंदों में परमाणुकरण करने में अत्यधिक कुशल होते हैं।

  2. कम ओवरस्प्रेः पारंपरिक स्प्रे नोजल अक्सर एक महत्वपूर्ण मात्रा में ओवरस्प्रे उत्पन्न करते हैं, जो तरल पदार्थ के नुकसान को संदर्भित करता है जो इच्छित लक्ष्य तक नहीं पहुंचता है।

  3. कोटिंग क्वालिटीः अल्ट्रासोनिक स्प्रे नोजल उन अनुप्रयोगों में विशेष रूप से फायदेमंद होते हैं जहां उच्च गुणवत्ता वाले कोटिंग की आवश्यकता होती है।

  4. सामग्री की बचतः अपने कुशल परमाणुकरण और कम ओवरस्प्रे के कारण, अल्ट्रासोनिक स्प्रे नोजल सामग्री की लागत में बचत करने में मदद कर सकते हैं।

  5. बहुमुखी प्रतिभाः अल्ट्रासोनिक स्प्रे नोजल पानी आधारित घोल, सॉल्वैंट्स, सस्पेंशन और चिपचिपा तरल पदार्थ सहित विभिन्न तरल पदार्थों को संभाल सकते हैं।

यह ध्यान देने योग्य है कि पारंपरिक स्प्रे नलिकाओं के कुछ परिदृश्यों में अपने स्वयं के फायदे हैं, जैसे कि उच्च प्रवाह अनुप्रयोग या ऐसी स्थितियां जहां बड़ी बूंदें वांछित हैं।अल्ट्रासोनिक स्प्रे नोजल और पारंपरिक स्प्रे नोजल के बीच चयन आवेदन की विशिष्ट आवश्यकताओं और दक्षता के मामले में वांछित परिणाम पर निर्भर करता है, कोटिंग की गुणवत्ता और सामग्री की बचत।
क्या आप उद्योगों या अनुप्रयोगों के उदाहरण दे सकते हैं जहां अल्ट्रासोनिक स्प्रे नोजल का सामान्य रूप से उपयोग किया जाता है?
अल्ट्रासोनिक पतली फिल्म सौर सेल स्प्रे कोटिंग मशीन 1
 

अल्ट्रासोनिक छिड़काव प्रणाली
अल्ट्रासोनिक छिड़काव उपकरण में स्व-सफाई है, जो छिड़काव प्रक्रिया के दौरान रक्त संग्रह ट्यूब की आंतरिक दीवार के प्रदूषण से बच सकता है,और अपने स्वयं के नोजल के संदूषण से भी बच सकता हैअल्ट्रासोनिक छिड़काव प्रणाली छिड़काव की संख्या, दूरी, मोटाई और अन्य मापदंडों को प्रोग्राम कर सकती है,ताकि छिड़काव प्रभाव की सटीकता सुनिश्चित हो सकेअल्ट्रासोनिक छिड़काव उपकरण कच्चे माल को बचा सकता है, और कच्चे माल का उपयोग दर 85% तक है।औद्योगिक अल्ट्रासोनिक एटॉमाइज़र को लगातार गुणवत्ता उत्पादन के साथ कुशल छिड़काव के लिए मौजूदा उत्पादन लाइनों में आसानी से बाद में लगाया जा सकता है.

एक औद्योगिक रूप से सिद्ध तकनीक के रूप में,अल्ट्रासोनिक छिड़काव सफलतापूर्वक उच्च प्रदर्शन पतली फिल्म कोटिंग लाइनों के लिए अर्धचालकों जैसे सटीक इलेक्ट्रॉनिक्स के निर्माण में लागू किया गया हैअल्ट्रासोनिक छिड़काव के दौरान, बूंदों के आकार और वितरण को ठीक से नियंत्रित किया जा सकता है,उच्च सतह क्षेत्र के साथ कणों के परिणामस्वरूप.

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