बड़े पैमाने पर अल्ट्रासोनिक तरल प्रोसेसर ग्राफीन सेल विघटनकारी

ग्रेफीन फैलाव के लिए बड़े पैमाने पर लागू अल्ट्रासोनिक तरल प्रोसेसर

पैरामीटर

परिचय:

अल्ट्रासोनिक ग्राफीन फैलाव उपकरण
ग्राफीन दुनिया की सबसे पतली और सबसे कठिन दो आयामी सामग्री है जो कार्बन परमाणुओं की एक परत से बनी है। इसकी बहुत अच्छी ताकत, लचीलापन, विद्युत चालकता,और ताप प्रवाहकता के विभिन्न क्षेत्रों में महत्वपूर्ण कार्य हैंप्राकृतिक अवस्था में, कोई एकल-परत स्याही सामग्री नहीं है-यह आम तौर पर तीन आयामी ग्राफाइट के रूप में मौजूद है।
अल्ट्रासोनिक ग्राफीन फैलाव को अल्ट्रासोनिक ग्राफीन छीलने भी कहा जाता है।ग्रेफाइट ऑक्साइड कटौती विधि प्रभावी रूप से ग्रेफाइट ऑक्साइड परतों के बीच दूरी बढ़ाने के लिए अल्ट्रासोनिक कंपन के साथ संयोजन में प्रयोग किया जाता हैग्रेफाइट ऑक्साइड के साथ एक बड़ी परत दूरी न केवल अन्य अणुओं और परमाणुओं के लिए फायदेमंद है ग्रेफाइट ऑक्साइड बनाने के लिए परतों के बीच डालने के लिए।इंटरकेलेशन कम्पोजिट सामग्री को आसानी से एकल परत वाले ग्रेफाइट ऑक्साइड में छीला जा सकता है, जिससे एकल परत वाले ग्राफीन की आगे की तैयारी की नींव रखी जा सके।
 

अल्ट्रासोनिक फैलाव सिद्धांत
अल्ट्रासोनिक नैनो फैलाव प्रणाली / अल्ट्रासोनिक ग्राफीन फैलाव उपकरण संचित कणों को फैलने के लिए अल्ट्रासोनिक तरंगों के गुहाकरण का उपयोग करता है।
दानेदार सस्पेंशन (तरल) को एक सुपर-मजबूत ध्वनि क्षेत्र में रखा जाता है और उपयुक्त अल्ट्रासोनिक आयाम के साथ संसाधित किया जाता है। गुहा प्रभाव में, उच्च तापमान, उच्च दबाव, माइक्रोजेट,तीव्र कंपनआदि।
अतिरिक्त प्रभाव के तहत, अणुओं के बीच की दूरी बढ़ती रहेगी, अंततः अणुओं को टूटने और एक एकल आणविक संरचना बनाने का कारण बनती है।यह उत्पाद विशेष रूप से नैनोमटेरियल्स को फैलाने के लिए उपयोगी है
(जैसे कार्बन नैनोट्यूब, ग्राफीन, सिलिका आदि) के अच्छे परिणाम हैं।
प्रकृति में ग्रेफाइट सामग्री की एक बड़ी संख्या है, और 1 मिलीमीटर मोटी ग्रेफाइट में ग्राफीन की लगभग 3 मिलियन परतें हैं।मुक्त अवस्था में
यह पदार्थ नीचे मौजूद नहीं है, और सभी ग्राफाइट शीट के रूप में मौजूद हैं जो मल्टीलेयर ग्राफीन के साथ टुकड़े टुकड़े किए गए हैं।यह बाहरी बल द्वारा किया जा सकता है.
परतों को एक कार्बन परमाणु की मोटाई के साथ एकल परत वाले ग्राफीन प्राप्त करने के लिए छील दिया गया था।
अल्ट्रासोनिक ग्राफीन फैलाव प्रणाली अल्ट्रासोनिक-सहायता प्राप्त Hummers विधि का उपयोग ग्राफीन ऑक्साइड तैयार करने के लिए करती है।यह द्रव के रूप में एक माध्यम का उपयोग करता है और द्रव के लिए उच्च आवृत्ति अल्ट्रासोनिक कंपन जोड़ता हैचूंकि अल्ट्रासाउंड एक यांत्रिक तरंग है, इसलिए इसे अणुओं द्वारा अवशोषित नहीं किया जाता है, और विकिरण प्रक्रिया के दौरान अणुओं की कंपन गति आर्क हो जाती है। गुहाओं के प्रभाव में, अणुओं को एक दूसरे से अलग किया जाता है।यह है, उच्च तापमान, उच्च दबाव, माइक्रोजेट, मजबूत कंपन और अन्य अतिरिक्त प्रभाव, अणुओं के बीच की दूरी कंपन के कारण अपनी औसत दूरी को बढ़ाती है,और अंततः अणुओं को तोड़ने का कारण बनता हैग्रेफाइट ऑक्साइड परतों के बीच की दूरी को अधिक प्रभावी ढंग से बढ़ाया जा सकता है, और अल्ट्रासोनिक शक्ति की वृद्धि के साथ, प्राप्त ग्रेफाइट ऑक्साइड परतों के बीच का अंतराल बढ़ रहा है।त्वरित अल्ट्रासोनिक तरंग द्वारा जारी दबाव ग्राफीन परत और परत के बीच वैन डेर वाल्स बल को नष्टग्रेफाइट ऑक्साइड के साथ एक बड़ी interlayer दूरी न केवल अन्य अणुओं के सम्मिलन के लिए अनुकूल है,एटम और अन्य इंटरलेयर एक ग्रेफाइट ऑक्साइड इंटरकेलेशन कम्पोजिट सामग्री बनाने के लिए, लेकिन यह भी आसानी से ग्रेफाइट ऑक्साइड की एक ही परत में छील जाता है
एकल परत वाले ग्राफीन की आगे की तैयारी के लिए आधार तैयार करें।
अल्ट्रासोनिक फैलाव उपकरण का उपयोग ग्राफीन, स्याही कोटिंग्स आदि के फैलाव और समरूपता के लिए किया जा सकता है; पेट्रोलियम इमल्सिफिकेशन; पारंपरिक चीनी चिकित्सा निष्कर्षण प्रसंस्करण; सेल,बालास्ट जल कुचलना, कीटाणुशोधन; रासायनिक कच्चे माल की त्वरित प्रतिक्रिया।

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